英國牛津 等離子設備 - Plasmalab System100系列產品
Plasmalab System100是當今世界上半導體光電子行業(yè)的主流機型,預真空鎖(Load Lock)的配置使我們客戶的產品質量得到了很大的提高。
該設備同樣為模塊化設計,可以根據客戶的需要配置成ICP模式、PECVD模式和多真空腔模式,同時載片量也可以根據需求從一次處理單片2"直到一次處理7片2"。
Plasmalab System100系列 - ICP(高密度等離子體)配置產品介紹
典型應用:
InP,GaAs,GaN系列三五簇材料的臺面及溝槽刻蝕
InP,GaAs系列通孔(Via Hole)刻蝕
深硅刻蝕
厚膜SiO2,SiNx刻蝕
紅外器件應用,CMT,InSb系列材料刻蝕
System100系列 - ICP(高密度等離子體)主要配置:
先進的基于Windows NT的PC2000控制軟件,工藝全程計算機控制,操作簡捷
ICP專用真空腔設計以及200mm真空管路配置,最大限度的發(fā)揮了ICP的功效
根據具體工藝配置的ICP180或ICP380系統(tǒng),集成了靜電屏蔽裝置,實現了“True ICP”的功能
不同尺寸的下電極配置,最多可以一批處理7片2"樣片,使小批量生產成為可能;同時也可以兼顧科研、開發(fā)方面的應用
預真空鎖(Load Lock)的配置完全將有毒及危險氣體與凈化車間隔離開來,最大限度保證了操作人員的安全
大抽速、防腐蝕真空泵組的配置,保證了設備的長期穩(wěn)定運轉
System100系列 - ICP(高密度等離子體)選配件:
激光干涉終點控制系統(tǒng)(EPD)可以在實時控制刻蝕的深度
干泵配置使設備維護更加簡單